マス・フォア・インダストリ研究所

セミナー



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ガウス写像の除外値数の最良の上限について


開催時期 2012-07-13 16:00~2012-07-13 17:30

場所 伊都キャンパス 伊都図書館3階 中セミナー室2

受講対象 研究者・大学院生 

講師 川上 裕 (山口大)

【講演要旨】:
複素平面から閉リーマン面への正則写像の除外値数の最良の上限はその閉リーマン面のオイラー数一致することが知られている.本講演では,藤本坦孝氏により得られた,3次元ユークリッド空間内の完備極小曲面のガウス写像の除外値数の最良の上限である“4”や講演者と中條大介氏との共同研究で得ることができた,3次元アファイン空間内の弱完備な非固有アファイン波面のラグランジアンガウス写像の除外値数の最良の上限である“3”の幾何学的意味について,発見的手法により解説する.また時間が許せば,ガウス写像の理論と正則曲線の理論との関係についても述べる予定である.